发布时间： 2025-08-29 19:57:16 浏览次数：14
此设备是将流化床技术与化学气相沉积技术相结合的高级表面处理工艺，主要用于对大量细小颗粒材料进行均匀涂覆。
其核心工作原理可以分为两个部分来理解：流态化过程和化学气相沉积过程。
流化床设备是实现 “流化床技术与化学气相沉积（CVD）技术结合” 的核心装置，主要用于完成微小颗粒的高效、均匀表面涂覆，其结构设计与工作流程围绕 “流态化 - 气相沉积” 双核心过程展开
1、设备核心由反应器主体、气体供给系统、加热控温系统、气固分离系统四部分组成：
2. 核心运行逻辑 设备运行遵循 “先流态化、后沉积” 的递进流程：
 | 设备核心特点： 均匀性：由于颗粒的剧烈运动，每个颗粒都能被均匀涂覆，批次一致性极好。 涂层致密：通常能获得结构致密、性能优良的涂层。 适用性广：可用于涂覆各种形状不规则的小颗粒，如核燃料颗粒、石墨颗粒、陶瓷粉末等。 1. 装料：将需要涂覆的基材颗粒通过进料口装入反应室，落在气体分布板上。 2. 密封与惰性环境置换：密封反应器，抽真空并用惰性气体置换多次，去除空气和水分，防止前驱体氧化或发生危险。 3. 加热与流化：启动加热系统，将反应室升至预定反应温度。同时通入流化气体，使床层进入稳定的流化状态。 4. 沉积：向流化气体中按比例引入反应前驱体气体，开始沉积过程。通过精密控制气体流量、温度、压力和时间来控制涂层的厚度和质量。 5. 冷却与取料：沉积完成后，停止通入前驱体和加热，继续通入惰性流化气体直至系统冷却至安全温度。停止通气，取出涂覆好的颗粒产品。 | |
设备名称 | FBCVD流化床管式炉 | |
规格型号 | OTF-1200XIII-VT-FB | |
供电电源 | 三相380V 50HZ | |
额定功率 | 9KW | |
加热元件 | 合金电阻丝 | |
温区数量 | 三温区 | |
传感器类型 | K型热电偶φ2*420mm | |
炉管材质及尺寸 | 变径石英管：φ50-φ80*1300*3侧边φ20 变径石英砂芯管：φ20-φ40*450（200目砂芯） | |
Tmax | 1200℃ | |
额定温度 | 1100℃ | |
推荐升温速率 | ≤10℃/min | |
温区尺寸长度 | φ150*（300+300+300）mm | |
四路质量流量控制器 | 氢气：S500 1000SCCM φ6.35双卡套 2米空头线 氟橡胶密封 氮气标定 氮气：S500 1000SCCM φ6.35双卡套 2米空头线 氟橡胶密封 氮气标定 一氧化碳：S500 2000SCCM φ6.35双卡套 2米空头线 氟橡胶密封 氮气标定 丙烯：S500 3SLM φ6.35双卡套 2米空头线 氟橡胶密封 氮气标定 | |
雾化仪 | 额定功率：55W（其中雾化器35W，蠕动泵20W） 蠕动泵最大流量：11-13ml/min 浮子流量计：0.3-3L/min 储液罐最大容积：360ml 雾化颗粒度：5-10μm 雾化量：0.4ml/min(以纯净水介质，最大功率时进气量为1L/min) | |
炉体尺寸 | 长1105*高2370*深650mm | |
控制系统 |
| 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； 2、可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结； 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录； 4、具有实现远程操控，实时观测设备状态； 5、温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正。 |
温度精度 | ±1℃ | |
加热元件 |
| Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金 |
压力测量与监控 |  | 采用机械压力表，表外壳为气密型结构，能有效保护内部机件免受环境影响和杂物侵入，同时具有较强的耐腐蚀和耐高温的能力。 |
净重 | 约240KG | |
设备使用注意事项 | 1、设备炉膛温度≥300℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害； 2、炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象，不影响设备的正常使用； | |
服务支持 | 一年有限保修，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如处理管和O形圈，请在下面的相关产品处订购更换件。） | |
· 核工业：为核反应堆的TRISO燃料颗粒 制备碳化硅（SiC）和热解碳（PyC）包覆层，这是FBCVD最经典和重要的应用。该涂层是防止放射性物质泄漏的关键屏障。
· 航空航天：为碳/碳复合材料的生产制备预制体，或在颗粒表面沉积抗氧化涂层（如SiC）。
· 电子与光伏：生产颗粒状的 多晶硅 原料。
· 化工与冶金：制备高性能的催化剂载体、耐磨耐腐蚀的颗粒涂层等。
总而言之，FBCVD系统通过利用流化床技术使颗粒材料像流体一样运动，从而为CVD化学反应提供了一个具有超大表面积、温度高度均匀的反应环境，最终实现了对大量细小颗粒的高效、均匀包覆
