CVD系统O1200-XTID3F
发布时间： 2017-11-16 19:58:05 浏览次数：8901
设备简介：
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
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NBD-101E嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正； | ||||||||
产品型号 | NBD-O1200-XTI（炉管直径50、60、80、100mm可选） | ||||||||
工作温度 | ≤1150℃ | ||||||||
加热区尺寸 | 440mm | ||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | ||||||||
电气规格 | AC 220V 4KW | ||||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | ||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | ||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | |||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | ||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | |||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | ||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | ||||||
极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC220V | ||||||||
高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | |||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | ||||||
真空测量计 | 复合真空计 | ||||||||
极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | ||||||
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746 | |||||||||
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