GaN(氮化镓)晶体
发布时间: 2024-03-23 18:38:26 浏览次数:695
产品介绍:
GaN晶体氮化镓是氮和镓的化合物,是一种直接能隙的半导体,由于具有化学稳定性好、热传导性能优良、击穿电压高、大功率,近年在光电子领域和高温高频电子应用备受关注,是目前最优秀的半导体材料。
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  产品名称:  GaTe 单晶基片  技术参数:  电阻率:N/A  产品规格;  晶向:(0001)  尺寸:10x10x1.0mm  抛光情况:抛光,自然解理面  注:可按客户要求定制方向和尺寸  标准包装  标准包装:1000 级超净室,100级超净袋  产品名称  氮化镓(GaN)晶体基片  技术参数  晶体结构:六方晶系  晶格常数a= 3.186
Å ,  c = 5.186 Å    传导类型:N型掺Si;N型不掺杂  可用表面积:>90%  位错密度:(5-9)x105Ω.cm  电阻率:R<0.05 Ω.cm;R<0.1Ω.cm  介电常数:8.9  TTV:≤15um  密度:6.15(g/cm3)  生长方法:HVPE(氢化物气相外延法)  产品规格  常规晶向: (0001)  常规尺寸:10.5x10x0.35mm、5x5x0.35mm  表面粗糙度:<5Å  注:尺寸可按照客户要求定做。  晶体缺陷  人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。  标准包装  1000级超净室100级超净袋或单片盒装 
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